LSA雷士碳氫超聲波清洗機

應用范圍

液晶顯示器件，半導體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、帶氧化膜的金屬材料等主要材料玻璃、光學玻璃。

去除污垢：有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑、聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余光刻膠等。

在真空狀態下進行清洗、干燥和蒸餾再生過程中，由于含氧量很低，雖然溫度達到或超過碳氫溶劑的閃點也不會燃燒，保證了使用的安全。

超聲波清洗機的特點：

1在液體中清洗的方式，清洗后臟污留在液體中

2可徹底清除物體表面的碳和有機污染物。

3清洗后的液體排放掉，重新換上新液體

4保證產品工件的高可靠性和高成品率

5產品表面清洗處理的均勻度非常一致