時(shí)間:2017-10-12 點(diǎn)擊: 次 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò) 作者:佚名 - 小 + 大
多晶硅主要有哪些污垢組成?在生產(chǎn)過(guò)程中的油脂、灰塵、水份、氯離子殘留、氧化物等,焊渣、焊藥的主要成分為鈦、錳、鉻、鐵等金屬氧化物,而切削油和防銹油及表面涂層則是一些高分子有機(jī)物,這些物質(zhì)可能造成多晶硅反應(yīng)速度減慢,產(chǎn)量降低,甚至硅反應(yīng)停止。而多晶硅的清洗主要工藝為酸洗、脫脂、鈍化、干燥等,在多晶硅設(shè)備的清洗中,主要清洗還原爐、氫化爐、CDI設(shè)備、合成車(chē)間、還原氫化車(chē)間、精餾系統(tǒng)、中間罐、管道等主要設(shè)備。 生產(chǎn)多晶硅的工藝較多,各個(gè)國(guó)家生產(chǎn)廠家在開(kāi)發(fā)新技術(shù)、進(jìn)行技術(shù)改造的同時(shí),通過(guò)對(duì)設(shè)備的清洗來(lái)降低能耗和保證多晶硅的產(chǎn)品質(zhì)量。提高設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)率,延長(zhǎng)使用壽命,爭(zhēng)取以最低的能耗,生產(chǎn)出更多的多晶硅產(chǎn)品。 因此我們推薦超聲波清洗,借助于表面活性劑的潤(rùn)濕、滲透、乳化、增溶、分散等作用, 使沾污在多晶硅表面的附著力削弱,從而脫離 多晶硅表面,而進(jìn)人清洗液中被乳化,分散開(kāi)。 在清洗液中超聲波清洗多晶硅其原理主要是“超聲空化”,超聲波振動(dòng)在液體中傳播的音波壓強(qiáng)達(dá)到一個(gè)大氣壓時(shí), 其功率密度為O.35 W/cm, 這時(shí)超聲波的音波壓強(qiáng)峰值就可達(dá)到真空或負(fù)壓,但實(shí)際上無(wú)負(fù)壓存在,因此在液體中產(chǎn)生一個(gè)很大的壓力,將液體分子拉裂成空洞一空化核,在超聲波壓強(qiáng)反向達(dá)到最大時(shí)破裂,由于破裂而產(chǎn)生的強(qiáng)烈沖擊將多晶硅表面的污物撞擊下來(lái),而這種由無(wú)數(shù)細(xì)小的空化氣泡破裂而產(chǎn)生的沖擊波現(xiàn)象稱(chēng)為“空化”現(xiàn)象。近年來(lái),無(wú)錫雷士超聲波清洗機(jī)廠生產(chǎn)的雷士超聲波清洗機(jī),在多家國(guó)內(nèi)大中型多晶硅制造廠得到應(yīng)用,效果非常好。 多晶硅設(shè)備主要清洗項(xiàng)目: 1、還原爐、氫化爐的清洗脫脂鈍化干燥 2、CDI系統(tǒng)設(shè)備的清洗脫脂鈍化干燥 3、還原氫化車(chē)間設(shè)備的清洗脫脂鈍化干燥 4、合成車(chē)間設(shè)備的清洗脫脂鈍化干燥 5、精餾工序設(shè)備的清洗脫脂鈍化干燥 6、中間罐區(qū)的清洗脫脂鈍化干燥 7、管道系統(tǒng)的清洗脫脂鈍化干燥
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