超精密工業清洗之納米工藝

當前，微電子技術已經發展到納米工藝水平，90納米的生產線已經在建設之中．通信設備中大量使用的波分復用光電子器件(DWDM)，分辨率要達到精確地分開和識別不同波長的光．這類產品的清洗要達到近乎完美的程度，殘留污物的直徑要在0.1nm左右．普通的電子顯微鏡已經難以觀察到。超精密工業清洗必須在超級凈化的環境中進行，需要使用超高純度的清洗劑和DI水(去離子水)，以及高級清洗裝置．除了部分簡單設備外，目前我國尚沒有企業能夠提供該類技術和設備，基本依靠進口。